La finition et le plaquage métalliques sont la colonne vertébrale de la fabrication moderne. Ces procédés confèrent aux composants essentiels — des pièces automobiles et aérospatiales aux appareils électroniques et produits grand public — leur durabilité, leur résistance à la corrosion et leurs caractéristiques de performance. Mais les mêmes bains chimiques qui produisent ces finitions supérieures génèrent aussi des flux d’eaux usées complexes riches en métaux lourds comme le chrome, le nickel et le cuivre. Gérer ces contaminants de façon sécuritaire et économique est l’un des défis les plus difficiles de l’industrie.
Les systèmes RT3 et RW3 de Metafix sont conçus spécifiquement pour répondre aux exigences des installations de plaquage et d’anodise. Ces systèmes de traitement automatisés ciblent les contaminants métaux lourds avec une précision et une efficacité inégalées — assurant la conformité tout en réduisant les coûts opérationnels.
Le Metafix RW3 est une solution avancée de gestion de l’eau de rinçage, conçue pour répondre aux exigences de précision de l’industrie de la finition et du placage des métaux. Conçu pour garder les réservoirs de rinçage propres, efficaces et équilibrés, il assure la qualité constante dont dépend votre chaîne de production — tout en réduisant considérablement la consommation d’eau et la production d’eaux usées.
Grâce à son contrôle automatisé de rinçage, le RW3 réduit drastiquement la consommation d’eau et les coûts d’égouts en éliminant les rinçages constants en débordement. Cela réduit non seulement le volume des eaux usées, mais diminue aussi les coûts d’exploitation — générant des économies mesurables tout en soutenant une production durable.






Découvrez nos analyses et voyez comment Metafix continue de redéfinir le traitement des eaux usées dans l’industrie de la finition des métaux.
Communiquez avec notre équipe pour discuter des besoins de votre établissement. Nous vous aiderons à déterminer le bon système, installation et configuration de surveillance pour vos opérations.